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技術文章

薄膜厚度測量系統各方面信息了解

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薄膜厚度測量系統
Thin Film Thickness Measurement System

快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高

產品簡介:
    TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200根據反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。

應用領域:

半導體(SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS,SOI等)

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)

LED (SiO2、光刻膠ITO等)

觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)

汽車(防霧層、Hard CoatingDLC等)

醫學(聚對二甲苯涂層球囊/導尿管壁厚藥膜等)

產品的優勢

 

 

 

應用案例(數據可靠)

薄膜厚度測量系統技術參數

型號

Delta-VIS

Delta-DUV

Delta-NIR

波長范圍

380-1050nm

190-1100nm

900-1700nm

厚度范圍

50nm-40um

1nm-30um

10um-3mm

準確度1

2nm

1nm

10nm

精度

0.2nm

0.2nm

3nm

入射角

90°

90°

90°

樣品材料

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

測量模式

反射/透射

反射/透射

反射/透射

光斑尺寸2

2mm

2mm

2mm

是否能在線

掃描選擇

XY可選

XY可選

XY可選

注:1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。

2.可選微光斑附件。

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